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低溫（wēn）研磨（mó）儀
產品參數：
主（zhǔ）要參數 | 參數範圍（wéi） |
應用領域： | 組織均（jun1）質、研磨、細胞破碎、勻漿、材料（liào）分散、製備、樣品（pǐn）混勻、振蕩 |
處理係統： | 擁有五大係統（tǒng），樣本研磨係統、低溫輸送係統、低溫（wēn）控（kòng）製係統、電路（lù）控製係統、保溫係統 |
溫度（dù）設置： | 自動設（shè）置溫度,可以在低溫的環境中進行研磨勻漿操作,較大程度（dù）保護樣品的（de）活性 |
粉碎原理： | 低溫（wēn）凍結力，機械（xiè）撞擊力，物理摩擦（cā）力 |
低溫範圍（wéi）: | 0度—室溫（wēn） , 全程低溫控製研磨腔（qiāng）體. |
樣（yàng）品處理： | 15秒內處理量同時可（kě）以處理32個樣品，包括可以適用12位和24位（wèi）的液氮冷凍適配器 |
可兼容樣品量： | 32*(0.2-0.5ML) /32*2ML /8*(5-15)ML /4*25ML /2*50ML，可以任意定做各種規格研磨管 |
觸摸屏顯示（shì）： | 液晶屏顯（xiǎn）示,可以方便直（zhí）觀的操作,另可升級成觸摸屏（píng）顯示操作. |
防震原理： | 德國schleifen-1工（gōng）作方式防震原理，以及垂直上下一體的運動方式，研磨珠運動方式，保證樣品處理的理想化和瞬間的粉碎（suì）效果. |
製冷方式： | 壓縮機 |
顯（xiǎn）示方式： | LCD液（yè）晶屏 |
控製方式： | 微電腦芯片 |
擊打率： | ＞2000 |
112進料尺寸（cùn）： | 無要求，根據（jù）適配器調節 |
出料粒（lì）度： | ~5µm |
研磨平台數 (可接納研磨罐數) | >2 |
帶自動中心（xīn）定位的緊固裝置 | 是 |
均質速度： | 0—70 HZ/秒,工作時間 ：0秒-9999分鍾，用戶可自行設定； |
研磨球直（zhí）徑（jìng）： | 0.1-30mm |
研磨（mó）球材料： | 合金鋼、鉻鋼、氧（yǎng）化鋯、碳化鎢、石英砂； |
加速： | 在2秒內達到（dào）較大速度 |
減速： | 在2秒內達到較（jiào）低速度 |
噪音（yīn）等級： | <55db |
研磨（mó）方式： | 濕磨，幹磨（mó），低溫研磨都可 |
製冷： | 具有升級成超低溫液氮冷凍或空氣製冷機製冷的能力（lì） |
適配器材質： | 聚四氟乙烯（xī） 或 合金鋼 |
全程保護： | 帶自（zì）動中心定位的緊固裝置 工作時安全鎖，全程保護 |
研磨套件（jiàn）材料（liào）： | 硬質剛, 聚四氟乙烯（特氟瓏）氧（yǎng）化鋯 |
外形尺寸： | 280*400*530 |
重量： | 23 KG |
